• AL 140

    典型应用:

    适合工业大尺寸产品大批量生产应用,等离子清洗在工业生产中主要用于材料的表面活化、清洗、喷附等工艺处理。
    • 显示平板
    • PCB
    • 汽车制造
    • 太阳能电池


    81 ¥ 0.00
  • AL 76

    典型应用:

    适合工业生产用,等离子清洗在工业生产中主要用于材料的表面活化、清洗、喷附等工艺处理。

    • 医疗
    • 显示平板
    • 新能源电池
    • 汽车制造
    • 太阳能电池

    • 橡胶/塑料/金属表面预处理


    138 ¥ 0.00
  • ASTRO 96

    典型应用:

    内部采用机器人,全自动料条进料微波等离子清洗,适合半导体封装工厂大批量生产。

    • 改善Die Bonding
    • 改善Wire Bonding
    • 改善锡球焊接
    • 改善倒装底部填充(FC Underfill)
    • 改善塑封(Molding)/封胶

    105 ¥ 0.00
  • AL 76 Compact

    典型应用:

    等离子清洗中的全能型产品,可满足大多数应用。适合大批量生产和实验室使用。

    • 改善Die Bonding
    • 改善Wire Bonding
    • 改善锡球焊接
    • 改善倒装底部填充(FC Underfill)
    • 改善塑封(Molding)/封胶

    173 ¥ 0.00
  • Q 235

    典型应用:

    等离子去胶,适合小批量生产,也适合于研发、实验室。

    • 去除光刻胶
    • 干刻或湿刻处理前或后

    • SU-8或其他环氧基树脂

    • MEMS制造中去除牺牲层

    488 ¥ 0.00
  • Q 240

    典型应用:

    等离子去胶,适合大批量生产,也适合于研发、实验室和小批量生产。

    • 去除光刻胶
    • 干刻或湿刻处理前或后

    • SU-8或其他环氧基树脂

    • MEMS制造中去除牺牲层

    173 ¥ 0.00
  • Q 150

    典型应用:

    等离子去胶,适合于研发、实验室和小批量生产。

    • 去除光刻胶
    • 干刻或湿刻处理前或后

    • SU-8或其他环氧基树脂

    • MEMS制造中去除牺牲层

    177 ¥ 0.00

微波等离子去胶机:

微波等离子清洗机: